Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2010
Laboratoire CETHIL : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00551623
Soumis le : mardi 4 janvier 2011-11:10:32
Dernière modification le : mercredi 29 mai 2024-09:48:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00551623 , version 1
- DOI : 10.1088/0022-3727/43/7/075501
Citer
M. Francoeur, M.P Menguc, R. Vaillon. Spectral tuning of near-field radiative heat flux between two thin silicon carbide films. Journal of Physics D: Applied Physics, 2010, 43, pp.75501. ⟨10.1088/0022-3727/43/7/075501⟩. ⟨hal-00551623⟩
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