Article Dans Une Revue
Plasma Processes and Polymers
Année : 2010
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https://hal.science/hal-00549497
Soumis le : mercredi 22 décembre 2010-10:02:48
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Citer
S. Abou Rich, V. Mille, Céline Vivien, S. Godey, P. Supiot. Kinetics of RPECVD organosilicon polymer post-treatment in a N2/O2 microwave plasma remote afterglow. Plasma Processes and Polymers, 2010, 7, pp.775-784. ⟨10.1002/ppap.200900185⟩. ⟨hal-00549497⟩
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