Kinetics of RPECVD organosilicon polymer post-treatment in a N2/O2 microwave plasma remote afterglow - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Plasma Processes and Polymers Année : 2010

Kinetics of RPECVD organosilicon polymer post-treatment in a N2/O2 microwave plasma remote afterglow

S. Abou Rich
  • Fonction : Auteur
V. Mille
  • Fonction : Auteur
Céline Vivien
S. Godey

Dates et versions

hal-00549497 , version 1 (22-12-2010)

Identifiants

Citer

S. Abou Rich, V. Mille, Céline Vivien, S. Godey, P. Supiot. Kinetics of RPECVD organosilicon polymer post-treatment in a N2/O2 microwave plasma remote afterglow. Plasma Processes and Polymers, 2010, 7, pp.775-784. ⟨10.1002/ppap.200900185⟩. ⟨hal-00549497⟩
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