Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Conformité, microstructure et purété de films d'aluminium déposés sur substrats de Si patternés. Etude comparative selon le procédé de dépôt : pulvérisation plasma, ablation laser, dépôt chimique en phase vapeur

Domaines

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Dates et versions

hal-00540019 , version 1 (26-11-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00540019 , version 1

Citer

N. Shaharil, R. Blanc, N. Prud'Homme, Amaël Caillard, Eric Millon, et al.. Conformité, microstructure et purété de films d'aluminium déposés sur substrats de Si patternés. Etude comparative selon le procédé de dépôt : pulvérisation plasma, ablation laser, dépôt chimique en phase vapeur. Materiaux 2010, Oct 2010, NANTES, France. pp.résumé 0235. ⟨hal-00540019⟩
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