Article Dans Une Revue
Applied Physics
Année : 2010
Marie-Anne Jung : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00526353
Soumis le : jeudi 14 octobre 2010-13:27:35
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:46:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00526353 , version 1
Citer
S. Duguay, A. Colin, D. Mathiot, Pascal Morin, D. Blavette. Atomic-scale redistribution of dopants in polycrystalline silicon layers. Applied Physics, 2010, 108, pp.034911_1-7. ⟨hal-00526353⟩
Collections
32
Consultations
0
Téléchargements