CVD Photoresist Performance for 248 nm Lithography - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 1999

CVD Photoresist Performance for 248 nm Lithography

C. Monget
  • Fonction : Auteur
T. Weidman
  • Fonction : Auteur
O. Toublan
  • Fonction : Auteur
J.P Panabière
  • Fonction : Auteur
Agnès Weill
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00494494 , version 1 (23-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00494494 , version 1

Citer

C. Monget, O. Joubert, T. Weidman, O. Toublan, J.P Panabière, et al.. CVD Photoresist Performance for 248 nm Lithography. SPIE'S 1999, Symposium on Microlithography, 1999, San José, United States. ⟨hal-00494494⟩
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