Growth and properties of Nd doped TiO2 PLD thin films - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Growth and properties of Nd doped TiO2 PLD thin films

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00494454 , version 1 (23-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00494454 , version 1

Citer

Emmanuel Le Boulbar, Eric Millon, Jacky Mathias, Chantal Boulmer-Leborgne, Yohely Davila, et al.. Growth and properties of Nd doped TiO2 PLD thin films. E-MRS 2010 Spring Meeting, Jun 2010, Strasbourg, France. ⟨hal-00494454⟩
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