Article Dans Une Revue
Journal of The Electrochemical Society
Année : 2008
Soline Boyer : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00492044
Soumis le : lundi 14 juin 2010-23:17:05
Dernière modification le : lundi 16 septembre 2024-17:52:04
Citer
V. Edon, Zhenyu Li, M.C. Hugon, C. Krug, K.P. Bastos, et al.. Electrical properties and interfacial characteristics of RuO2/HfAlOx/SiON/Si and RuO2/LaAlO3/SiON/Si capacitors. Journal of The Electrochemical Society, 2008, 155 (9), pp.H661. ⟨10.1149/1.2952529⟩. ⟨hal-00492044⟩
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