Chemical Vapour Deposition processes of metallic amorphous or nanocrystalline thin films - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Chemical Vapour Deposition processes of metallic amorphous or nanocrystalline thin films

E. Blanquet
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
A. Mantoux
  • Fonction : Auteur
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
M. Pons
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
C. Vahlas

Domaines

Matériaux

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https://hal.science/hal-00488885

Soumis le : jeudi 3 juin 2010-11:50:03

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

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Dates et versions

hal-00488885 , version 1 (03-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00488885 , version 1

Citer

E. Blanquet, A. Mantoux, M. Pons, C. Vahlas. Chemical Vapour Deposition processes of metallic amorphous or nanocrystalline thin films. World Premier Institute, AIMR (Advanced Institute of Materials Research) WPI-EUROPE-INPG on Metallic Glasses, Aug 2009, GRENOBLE, France. ⟨hal-00488885⟩

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