Communication Dans Un Congrès
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00486345
Soumis le : mardi 25 mai 2010-15:33:43
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00486345 , version 1
Citer
B. Pelissier, C. Durand, Corentin Vallée, M. Bonvalot, L. Vallier, et al.. Etch mechanisms of SiOC and selectivity to SiO2 and SiC in fluoro carbon based Plasmas. 49th International AVS Symposium & Topical Conferences, 2002, Denver, United States. ⟨hal-00486345⟩
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