Complementary Double Exposure Technique (CODE): a way to print 0.1um gate level using a double exposure binary mask approach - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Complementary Double Exposure Technique (CODE): a way to print 0.1um gate level using a double exposure binary mask approach

S. Manakli
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Y. Trouiller
  • Fonction : Auteur
O. Toublan
  • Fonction : Auteur
P. Schiavone
Laboratoire des technologies de la microélectronique
C. Miramond
  • Fonction : Auteur
Y. Rody
  • Fonction : Auteur
F. Sundermann
  • Fonction : Auteur
J.D Chapon
  • Fonction : Auteur
P.J Goirand
  • Fonction : Auteur

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00484506

Soumis le : mardi 18 mai 2010-15:13:35

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00484506 , version 1 (18-05-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00484506 , version 1

Citer

S. Manakli, Y. Trouiller, O. Toublan, P. Schiavone, C. Miramond, et al.. Complementary Double Exposure Technique (CODE): a way to print 0.1um gate level using a double exposure binary mask approach. SPIE'S 2002, Symposium on Microlithography, 2002, United States. ⟨hal-00484506⟩

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