Communication Dans Un Congrès
Année : 2001
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00481964
Soumis le : vendredi 7 mai 2010-16:11:41
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:12:51
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00481964 , version 1
Citer
P. Chabert, J. Perrin, J.P Booth, G. Cunge. High rate silicon carbide etching. ISPC, 15th International Symposium on Plasma Chemistry, 2001, Orleans, France. ⟨hal-00481964⟩
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