Inter-Diffusion of cobalt and silicon through an ultrathin aluminum oxide layer - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2010

Inter-Diffusion of cobalt and silicon through an ultrathin aluminum oxide layer

T. El Asri
  • Fonction : Auteur
Mahfoudh Raïssi
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 958152
S. Vizzini
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
A. El Maachi
  • Fonction : Auteur
E.L. Ameziane
  • Fonction : Auteur
F. Arnaud d'Avitaya
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
J.-L. Lazzari
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV
C. Coudreau
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
H. Oughaddou
CV
B. Aufray
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
A. Kaddouri

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https://hal.science/hal-00475821

Soumis le : vendredi 23 avril 2010-10:08:08

Dernière modification le : mercredi 31 janvier 2024-16:47:56

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Dates et versions

hal-00475821 , version 1 (23-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00475821 , version 1

Citer

T. El Asri, Mahfoudh Raïssi, S. Vizzini, A. El Maachi, E.L. Ameziane, et al.. Inter-Diffusion of cobalt and silicon through an ultrathin aluminum oxide layer. Applied Surface Science, 2010, 256, pp.2731-2734. ⟨hal-00475821⟩

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