Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2010

Inter-Diffusion of cobalt and silicon through an ultrathin aluminum oxide layer

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Dates et versions

hal-00475821 , version 1 (23-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00475821 , version 1

Citer

T. El Asri, Mahfoudh Raïssi, S. Vizzini, A. El Maachi, E.L. Ameziane, et al.. Inter-Diffusion of cobalt and silicon through an ultrathin aluminum oxide layer. Applied Surface Science, 2010, 256, pp.2731-2734. ⟨hal-00475821⟩
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