Article Dans Une Revue
ECS Transactions
Année : 2009
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https://hal.science/hal-00471998
Soumis le : vendredi 9 avril 2010-11:28:16
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Citer
G. Larrieu, Dmitri Yarekha, Emmanuel Dubois, D. Deresmes, N. Breil, et al.. Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs. ECS Transactions, 2009, 19, pp.201-207. ⟨10.1149/1.3117410⟩. ⟨hal-00471998⟩
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