Article Dans Une Revue
IEEE Transactions on Nanotechnology
Année : 2009
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https://hal.science/hal-00471972
Soumis le : vendredi 9 avril 2010-11:08:33
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Citer
X.H. Tang, V. Bayot, N. Reckinger, D. Flandre, J.P. Raskin, et al.. A simple method for measuring Si-Fin sidewall roughness by AFM. IEEE Transactions on Nanotechnology, 2009, 8, pp.611-616. ⟨10.1109/TNANO.2009.2021064⟩. ⟨hal-00471972⟩
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