A simple method for measuring Si-Fin sidewall roughness by AFM - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue IEEE Transactions on Nanotechnology Année : 2009

A simple method for measuring Si-Fin sidewall roughness by AFM

X.H. Tang
  • Fonction : Auteur
V. Bayot
  • Fonction : Auteur
N. Reckinger
  • Fonction : Auteur
D. Flandre
  • Fonction : Auteur
J.P. Raskin
  • Fonction : Auteur
B. Nysten
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00471972 , version 1 (09-04-2010)

Identifiants

Citer

X.H. Tang, V. Bayot, N. Reckinger, D. Flandre, J.P. Raskin, et al.. A simple method for measuring Si-Fin sidewall roughness by AFM. IEEE Transactions on Nanotechnology, 2009, 8, pp.611-616. ⟨10.1109/TNANO.2009.2021064⟩. ⟨hal-00471972⟩
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