Intrafield process control for 45 nm CMOS logic patterning - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering Année : 2009

Intrafield process control for 45 nm CMOS logic patterning

B. Le Gratiet
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J. Massin
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STMicroelectronics [Crolles]
A. Ostrovsky
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C. Monget
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STMicroelectronics [Crolles]
M. Decaux
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N. Thivolle
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R. Faure
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F. Baron
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J.D Chapon
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K. Dabertrand
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Laboratoire des technologies de la microélectronique
F. Sundermann
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P. Gouraud
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L. Babaud
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Laboratoire des technologies de la microélectronique
L. Thevenon
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N. Cluet
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B. Vandewalle
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Soumis le : mardi 23 mars 2010-09:53:56

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:56:55

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00466206 , version 1 (23-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00466206 , version 1

Citer

B. Le Gratiet, J. Massin, A. Ostrovsky, C. Monget, M. Decaux, et al.. Intrafield process control for 45 nm CMOS logic patterning. Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2009, pp.72722-32. ⟨hal-00466206⟩

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