HAAF and EELS study of ULK dielectrics: Impact of CMP on microstructure and electronic properties - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Imaging & Microscopy Année : 2009

HAAF and EELS study of ULK dielectrics: Impact of CMP on microstructure and electronic properties

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Yannick Champion  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00457547

Soumis le : mercredi 17 février 2010-16:03:14

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

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Dates et versions

hal-00457547 , version 1 (17-02-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00457547 , version 1

Citer

M. Cheynet, S. Pokrant, F. Volpi, M. Aimadeddine, V. Arnal. HAAF and EELS study of ULK dielectrics: Impact of CMP on microstructure and electronic properties. Imaging & Microscopy, 2009, 11 (1), pp.44-47. ⟨hal-00457547⟩

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