Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00444488
Soumis le : mercredi 6 janvier 2010-16:36:37
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:52
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00444488 , version 1
Citer
Julien Ladroue, Aline Meritan, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, et al.. Inductively Coupled Plasma Etching of GaN and Induced Defects. AVS 56th International Symposium & Exhibition, Nov 2009, San Jose, United States. ⟨hal-00444488⟩
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