Growth of doped and undoped titanium oxide thin films by pulsed-laser deposition for transparent electronics - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Growth of doped and undoped titanium oxide thin films by pulsed-laser deposition for transparent electronics

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Eric Millon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00444475

Soumis le : mercredi 6 janvier 2010-16:23:30

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-13:12:03

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Dates et versions

hal-00444475 , version 1 (06-01-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00444475 , version 1

Citer

Emmanuel Le Boulbar, Eric Millon, Jacky Mathias, Jacques Perriere, Wilfrid Seiler, et al.. Growth of doped and undoped titanium oxide thin films by pulsed-laser deposition for transparent electronics. E-MRS 2009 Spring Meeting, Jun 2009, Strasbourg, France. ⟨hal-00444475⟩

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