Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00444466
Soumis le : mercredi 6 janvier 2010-16:09:04
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:52
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00444466 , version 1
Citer
Vincent L. Girault, Remi Dussart, Laurianne E. Pichon, Jeremy Pereira, Philippe Lefaucheux, et al.. STiGer cryoetching process on silicon : results on performances for 0.8 um trenches. 17th International Colloquium on Plasma Processes, Jun 2009, Marseille, France. ⟨hal-00444466⟩
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