Study of SiOxFy passivation layer deposited in SiF4/O2 ICP discharge
Jeremy Pereira
(1)
,
Laurianne E. Pichon
(1)
,
Remi Dussart
(1)
,
Corinne Y. Duluard
(1)
,
El-Houcine Oubensaid
(1)
,
Hao Jiang
(1)
,
Philippe Lefaucheux
(1)
,
Mohamed Boufnichel
(2)
,
Pierre Ranson
(1)
Jeremy Pereira
- Fonction : Auteur
- PersonId : 858541
Laurianne E. Pichon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 855202
Remi Dussart
- Fonction : Auteur
- PersonId : 4419
- IdHAL : remi-dussart
Corinne Y. Duluard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 748296
- IdHAL : corinne-y-duluard
- ORCID : 0000-0003-1773-6551
Hao Jiang
- Fonction : Auteur
- PersonId : 20849
- IdHAL : iris-jianghao