Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00444264
Soumis le : mercredi 6 janvier 2010-11:49:39
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:26:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00444264 , version 1
Citer
Laurianne E. Pichon, El-Houcine Oubensaid, Corinne Y. Duluard, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, et al.. A robust passivation-enhanced cryogenic process used for deep silicon etching. AVS 54th International Symposium & Exhibition, Oct 2007, Seattle, United States. ⟨hal-00444264⟩
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