Neutral production in SF6/SiCl4 inductively coupled plasmas - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00444252 , version 1 (06-01-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00444252 , version 1

Citer

Corinne Y. Duluard, Remi Dussart, Laurianne E. Pichon, El-Houcine Oubensaid, Philippe Lefaucheux, et al.. Neutral production in SF6/SiCl4 inductively coupled plasmas. 60th Gaseous Electronics Conference, Oct 2007, Arlington, United States. ⟨hal-00444252⟩
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