Enhanced robustness of the cryogenic process for silicon deep etching
Remi Dussart
(1)
,
Thomas Tillocher
(1)
,
El-Houcine Oubensaid
(1)
,
Philippe Lefaucheux
(1)
,
Pierre Ranson
(1)
,
Xavier Mellhaoui
(1)
,
Mohamed Boufnichel
(2)
,
Lawrence J. Overzet
(3)
,
Laurianne E. Pichon
(1)
,
Corinne Y. Duluard
(1)
Remi Dussart
- Fonction : Auteur
- PersonId : 4419
- IdHAL : remi-dussart
Thomas Tillocher
- Fonction : Auteur
- PersonId : 7479
- IdHAL : thomas-tillocher
- ORCID : 0000-0002-9160-5595
- IdRef : 120339072
Laurianne E. Pichon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 855202
Corinne Y. Duluard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 748296
- IdHAL : corinne-y-duluard
- ORCID : 0000-0003-1773-6551