Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00444198
Soumis le : mercredi 6 janvier 2010-10:40:20
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:52
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00444198 , version 1
Citer
Remi Dussart, Laurianne E. Pichon, Corinne Y. Duluard, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. SiOxFy film deposited by SiF4/O2 plasma on silicon at low temperature. 16th International Colloquium on Plasma Processes, Jun 2007, Toulouse, France. ⟨hal-00444198⟩
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