Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00442663
Soumis le : mardi 22 décembre 2009-11:03:38
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:26:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00442663 , version 1
Citer
Xavier Mellhaoui, Remi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Lawrence J. Overzet, et al.. SiOxFy passivation layer characterization in the silicon cryoetching. Eighth International Conference on Advanced Surface Engineering (8th ICASE), Apr 2006, Japan. ⟨hal-00442663⟩
Collections
25
Consultations
0
Téléchargements