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Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Cryoetching of silicon for MEMS and microelectronic components

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00442662 , version 1 (22-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00442662 , version 1

Citer

Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, Laurianne E. Pichon, Corinne Y. Duluard, et al.. Cryoetching of silicon for MEMS and microelectronic components. 16th International Colloquium on Plasma Processes, Jun 2007, France. ⟨hal-00442662⟩
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