CW argon laser crystallization of silicon films: structural properties - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Non-Crystalline Solids Année : 2006

CW argon laser crystallization of silicon films: structural properties

Yolande Sambin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00437319

Soumis le : lundi 30 novembre 2009-12:13:48

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:52

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437319 , version 1 (30-11-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437319 , version 1

Citer

J.F. Michaud, Régis Rogel, Tayeb Mohammed-Brahim, Michel Sarret. CW argon laser crystallization of silicon films: structural properties. Journal of Non-Crystalline Solids, 2006, 352 (9-20), pp.998-1002. ⟨hal-00437319⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

SUPELEC UNIV-NANTES UNIV-RENNES1 CNRS INSA-RENNES IETR UR1-MATH-STIC UR1-UFR-ISTIC IETR-MM UNIV-RENNES INSA-GROUPE UR1-MATH-NUM NANTES-UNIVERSITE
120 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More