Article Dans Une Revue
Surface and Coatings Technology
Année : 2006
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https://hal.science/hal-00436720
Soumis le : vendredi 27 novembre 2009-16:15:18
Dernière modification le : mardi 18 février 2025-15:22:57
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00436720 , version 1
Citer
Mounir Qasmi, Patrick Delobelle, Fabrice Richard, A. Bosseboeuf. Effect of the residual stress on the determination through nanoindentation technique of the Young's modulus of W thin film deposit on Si02/Si substrate. Surface and Coatings Technology, 2006, 200 (14-15), pp.4185-4194. ⟨hal-00436720⟩
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