Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00400647
Soumis le : mercredi 1 juillet 2009-13:01:45
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00400647 , version 1
Citer
O. Luere, E. Pargon, O. R. Joubert, T. Lill. XPS sidewalls analyses ofP-Si/TiN/HfO2 gate stack etched with Cl and F based chemistries. 54th International AVS Symposium & Topical Conferences, 2007, seattle, United States. ⟨hal-00400647⟩
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