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Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Innovative strategy to improve the stability of plasma etching processes

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00400466 , version 1 (30-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00400466 , version 1

Citer

R. Ramos, G. Cunge, B. Pelissier, O. R. Joubert. Innovative strategy to improve the stability of plasma etching processes. 52nd International AVS Symposium & Topical Conferences, 2005, boston, United States. ⟨hal-00400466⟩
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