Innovative strategy to improve the stability of plasma etching processes - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Innovative strategy to improve the stability of plasma etching processes

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00400466

Soumis le : mardi 30 juin 2009-18:46:05

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:36:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00400466 , version 1 (30-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00400466 , version 1

Citer

R. Ramos, G. Cunge, B. Pelissier, O. R. Joubert. Innovative strategy to improve the stability of plasma etching processes. 52nd International AVS Symposium & Topical Conferences, 2005, boston, United States. ⟨hal-00400466⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS FMNT LTM PLASMA_ETCHING
95 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More