Plasma/reactor walls interactions in advanced gate etching processes - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2007

Plasma/reactor walls interactions in advanced gate etching processes

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00397069

Soumis le : vendredi 19 juin 2009-14:37:59

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:00:24

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397069 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397069 , version 1

Citer

R. Ramos, G. Cunge, O. Joubert, N. Sadeghi, M. Mori, et al.. Plasma/reactor walls interactions in advanced gate etching processes. Thin Solid Films, 2007, 515 (12), pp.4846-4852. ⟨hal-00397069⟩

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