Material and processing impact on thermal properties of thin resist films for high resolution lithography - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Material and processing impact on thermal properties of thin resist films for high resolution lithography

J.H. Tortai
Laboratoire des technologies de la microélectronique
S. Marceau
CV
G. Karadimos
  • Fonction : Auteur
N. Vourdas
  • Fonction : Auteur
E. Gogolides
  • Fonction : Auteur
I. Raptis
  • Fonction : Auteur
K. van Werden
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00394548

Soumis le : vendredi 12 juin 2009-08:21:19

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:53:22

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394548 , version 1 (12-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394548 , version 1

Citer

J.H. Tortai, S. Marceau, G. Karadimos, N. Vourdas, E. Gogolides, et al.. Material and processing impact on thermal properties of thin resist films for high resolution lithography. Micro- and Nano-Engineering conference, 2005, vienne, Austria. ⟨hal-00394548⟩

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