High UV-sensitive and etch resistant material for UV-Nanoimprint - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

High UV-sensitive and etch resistant material for UV-Nanoimprint

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00390369

Soumis le : mardi 2 juin 2009-08:31:29

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:10:10

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00390369 , version 1 (02-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00390369 , version 1

Citer

P. Voisin, M. Zelsmann, R. Cluzel, C. Gourgon, J. Boussey-Said. High UV-sensitive and etch resistant material for UV-Nanoimprint. Micro- and Nano-Engineering conference- MNE 2006, 2006, barcelone, Spain. ⟨hal-00390369⟩

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