Growth of thick AIN layers by high temperature CVD ('HTCVD) - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Materials Science Forum Année : 2009

Growth of thick AIN layers by high temperature CVD ('HTCVD)

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Matériaux Génie des procédés

Yannick Champion  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00389378

Soumis le : jeudi 28 mai 2009-16:11:49

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

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Dates et versions

hal-00389378 , version 1 (28-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00389378 , version 1

Citer

A. Claudel, E. Blanquet, D. Chaussende, M. Audier, D. Pique, et al.. Growth of thick AIN layers by high temperature CVD ('HTCVD). Materials Science Forum, 2009, 600-603, pp.1269-1272. ⟨hal-00389378⟩

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