Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Yannick Champion : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00386261
Soumis le : mercredi 20 mai 2009-17:39:35
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00386261 , version 1
Citer
M. Vilmay, Daniel Roy, F. Volpi. Characterization of Low-k SiOCH Dielectric for 45nm Technology and Link between the Dominant Leakage Path and the Breakdown Localization. Materials for Advanced Metallization Conference 2008 (MAM2008), 2008, Germany. ⟨hal-00386261⟩
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