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Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Cu grain growth in damascene narrow trenches

S. Maitrejean
  • Fonction : Auteur
V. Carreau
  • Fonction : Auteur
O. Thomas
  • Fonction : Auteur
S. Labat
B. Kaouache
  • Fonction : Auteur
J. Lepinoux
Marc Legros
Joël Douin
C. Cayron
  • Fonction : Auteur
O. Sicardy
  • Fonction : Auteur
D. Weygand
  • Fonction : Auteur
O. Dubreuil
  • Fonction : Auteur
P. Normandon
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00370064 , version 1 (23-03-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00370064 , version 1

Citer

S. Maitrejean, V. Carreau, O. Thomas, S. Labat, B. Kaouache, et al.. Cu grain growth in damascene narrow trenches. Stress Induced phenomenan in Metallization, 2008, Austin, United States. ⟨hal-00370064⟩

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