Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
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https://hal.science/hal-00367364
Soumis le : mercredi 11 mars 2009-10:08:29
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00367364 , version 1
Citer
F. Cornu-Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, P. Coronel, G. Larrieu, et al.. Dual silicide integration of low Schottky-barrier source-drain in a spacer-first damascene-metal-gate FinFET architecture. Proceedings of the 12th Silicon Nanoelectronics Workshop, SNW 2007, 2007, Kyoto, Japan. ⟨hal-00367364⟩
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