An original selective etch of Pt vs PtSi using a low temperature germanidation process - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

An original selective etch of Pt vs PtSi using a low temperature germanidation process

N. Breil
  • Fonction : Auteur
A. Halimaoui
  • Fonction : Auteur
G. Larrieu
  • Fonction : Auteur
J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
G. Rolland
  • Fonction : Auteur
A. Pouydebasque
  • Fonction : Auteur
T. Skotnicki
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00367361 , version 1 (11-03-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00367361 , version 1

Citer

N. Breil, A. Halimaoui, Emmanuel Dubois, G. Larrieu, J. Ratajczak, et al.. An original selective etch of Pt vs PtSi using a low temperature germanidation process. Proceedings of the 211th Electrochemical Society Meeting, 2007, Chicago, IL, United States. ⟨hal-00367361⟩
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