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Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Open air, atmospheric pressure microwave plasma torch assisted chemical vapour deposition system for thin oxide film deposition

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00362359 , version 1 (18-02-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00362359 , version 1

Citer

S.S. Asad, Christelle Dublanche-Tixier, O. Leroy, Cédric Jaoul, Pascal Tristant, et al.. Open air, atmospheric pressure microwave plasma torch assisted chemical vapour deposition system for thin oxide film deposition. 21st International Conference on Surface Modification Technologies, Sep 2007, PARIS, France. pp.183-190. ⟨hal-00362359⟩
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