Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications

J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
A. Laszcz
  • Fonction : Auteur
A. Czerwinski
  • Fonction : Auteur
J. Katcki
  • Fonction : Auteur
F. Phillipp
  • Fonction : Auteur
P.A. van Aken
  • Fonction : Auteur
N. Reckinger
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00361544 , version 1 (16-02-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00361544 , version 1

Citer

J. Ratajczak, A. Laszcz, A. Czerwinski, J. Katcki, F. Phillipp, et al.. Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications. XIII International Conference on Electron Microscopy, EM'2008, 2008, Cracow-Zakopane, Poland. ⟨hal-00361544⟩
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