Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00360408
Soumis le : mercredi 11 février 2009-10:37:56
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Citer
T.C. Lim, O. Rozeau, C. Buj, M. Paccaud, Gilles Dambrine, et al.. HF characterisation of sub-100nm UTB-FDSOI with TiN/HfO2 gate stack. 9th International Conference on Ultimate Integration of Silicon, ULIS 2008, 2008, Italy. pp.145-148, ⟨10.1109/ULIS.2008.4527160⟩. ⟨hal-00360408⟩
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