Article Dans Une Revue
Journal of Crystal Growth
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00360097
Soumis le : mardi 10 février 2009-11:41:30
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00360097 , version 1
- DOI : 10.1016/j.jcrysgro.2008.04.053
Citer
M. Detalle, Denis Remiens. Chemical and physical characterization of LaNiO3 thin films deposited by sputtering for top and bottom electrodes in ferroelectric structure. Journal of Crystal Growth, 2008, 310, pp.3596-3603. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2008.04.053⟩. ⟨hal-00360097⟩
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