Deposition rate and morphology of carbon nanotubes at different position in a CVD reactor - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Rare Metals Année : 2009

Deposition rate and morphology of carbon nanotubes at different position in a CVD reactor

Daxin Zeng
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Maxime Genestoux
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Jinbo Bai
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Soumis le : lundi 26 janvier 2009-15:58:00

Dernière modification le : mercredi 21 août 2024-11:01:20

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Dates et versions

hal-00356110 , version 1 (26-01-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00356110 , version 1

Citer

Daxin Zeng, Maxime Genestoux, Jinbo Bai. Deposition rate and morphology of carbon nanotubes at different position in a CVD reactor. Rare Metals, 2009, 27 (6), pp.637-641. ⟨hal-00356110⟩

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