STEM-EELS investigations of Ultra-Low-k dielectrics after chemical mechanical polishing: impact on energy band gap - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Under review Microelectronic Engineering Année : 2008

STEM-EELS investigations of Ultra-Low-k dielectrics after chemical mechanical polishing: impact on energy band gap

M. Cheynet
  • Fonction : Auteur
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
S. Pokrant
  • Fonction : Auteur
F. Volpi
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
M. Aimadeddine
  • Fonction : Auteur
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
V. Arnal
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux Génie des procédés

Yannick Champion  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00354602

Soumis le : mardi 20 janvier 2009-13:46:32

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00354602 , version 1 (20-01-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00354602 , version 1

Citer

M. Cheynet, S. Pokrant, F. Volpi, M. Aimadeddine, V. Arnal. STEM-EELS investigations of Ultra-Low-k dielectrics after chemical mechanical polishing: impact on energy band gap. Under review Microelectronic Engineering, 2008. ⟨hal-00354602⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UGA CNRS SIMAP
111 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More