The influence of chemical composition on Line Edge Roughness values in 193nm resists - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

The influence of chemical composition on Line Edge Roughness values in 193nm resists

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00349082 , version 1 (23-12-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00349082 , version 1

Citer

Georges Hadziioannou. The influence of chemical composition on Line Edge Roughness values in 193nm resists. J3N, Oct 2008, Grenoble, France. ⟨hal-00349082⟩

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