Structure, mechanical and electrical properties of co-sputtered Cr-Si-N films versus their silicon content - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Structure, mechanical and electrical properties of co-sputtered Cr-Si-N films versus their silicon content

Domaines

Matériaux

Nicolas Martin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00346272

Soumis le : jeudi 11 décembre 2008-12:13:14

Dernière modification le : lundi 8 juillet 2024-12:39:01

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00346272 , version 1 (11-12-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00346272 , version 1

Citer

D. Pilloud, C. Rousselot, C. Nouveau, L. Imhoff, J. Gavoille, et al.. Structure, mechanical and electrical properties of co-sputtered Cr-Si-N films versus their silicon content. International Colloquium on Plasma Processes CIP 2007, Jun 2007, France. ⟨hal-00346272⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-FCOMTE UNIV-BM FEMTO-ST UNIV-BM-THESE
36 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More