Investigation of niobium oxynitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Investigation of niobium oxynitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering

M. Fenker
  • Fonction : Auteur
O. Banakh
  • Fonction : Auteur
H. Kappl
  • Fonction : Auteur
J. F. Pierson

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00346201 , version 1 (11-12-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00346201 , version 1

Citer

M. Fenker, O. Banakh, H. Kappl, Nicolas Martin, J. F. Pierson. Investigation of niobium oxynitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering. 33rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films ICMCTF'2006, May 2006, United States. ⟨hal-00346201⟩
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