Reactive gas pulsing process: a method to extend the composition range of sputtered iron oxynitride films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00319323 , version 1 (08-09-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00319323 , version 1

Citer

Carine Petitjean, Moussa Grafoute, Christophe Rousselot, Jean-François Pierson. Reactive gas pulsing process: a method to extend the composition range of sputtered iron oxynitride films. Surface and Coatings Technology, 2008, 202, pp.4825-4829. ⟨hal-00319323⟩
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