Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00316078
Soumis le : mardi 2 septembre 2008-15:58:18
Dernière modification le : vendredi 21 novembre 2025-14:50:02
Citer
G. Lazar, B. Bouchet-Fabre, K. Zellama, M. Clin, D. Ballutaud, et al.. Strutural properties of nitrogenated amorphous carbon films: influence of deposition temperature and radiofrequency discharge power. Journal of Applied Physics, 2008, 104, pp.073534. ⟨10.1063/1.2951622⟩. ⟨hal-00316078⟩
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