Nanostructured Silicon Thin Films Deposited Under Dusty Plasma Conditions - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue IEEE Transactions on Plasma Science Année : 2008

Nanostructured Silicon Thin Films Deposited Under Dusty Plasma Conditions

Résumé

Silane-based dusty plasmas are widely used in plasma-enhanced chemical vapor deposition processes to synthesize silicon nanoparticles and/or nanostructured thin films. Under certain conditions, it is possible to access to the inner structure of the thin film by scanning electronmicroscopy, using the “hole” due to dust particles that moved when the sample is brought back to atmospheric pressure.
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hal-00312605 , version 1 (25-08-2008)

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Citer

Marjorie Cavarroc, Maxime Mikikian, Yves Tessier, Laifa Boufendi. Nanostructured Silicon Thin Films Deposited Under Dusty Plasma Conditions. IEEE Transactions on Plasma Science, 2008, 36 (4), pp.1016. ⟨10.1109/TPS.2008.920889⟩. ⟨hal-00312605⟩
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